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Beschreibung:
Für die Beseitigung von Schmutz und Staubpartikeln an schwer zugänglichen Stellen in Foto-, Optik- und Elektronikindustrie.
Mit der neu entwickelten Rezeptur konnte das ODP auf ein Minimum reduziert werden (Faktor kleiner 0,05) und der neuen FCKW-Halon-Verbotsordnung entsprechen.
Anwendungsgebiete:
Foto/Optik, Elektronik, Uhrwerk (Quarzuhren), Module, Projektoren, Kameras, Modellbahnen, Medizintechnik, Mikroskopie
